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Definition von 전자빔리소그래피 im Wörterbuch Koreanisch
Elektronenstrahllithographie Bezieht sich auf ein Verfahren zum Aufzeichnen eines Schaltungsmusters in dem Prozess des Herstellens einer integrierten Halbleiterschaltung. Dieses Gerät wird hauptsächlich verwendet, um Fotomasken zu erstellen, die dieselbe Größe haben wie ein Dorf oder 10-fach vergrößert sind. Die Photomaske wird auf den auf der Oberfläche aufgetragenen Resist übertragen und kann durch die Elektronenstrahl-Ziehvorrichtung direkt auf den Resist auf der Waferoberfläche abgebildet werden. Dieses direkte Ziehverfahren wird in Zukunft für die Produktion kleiner Mengen verschiedener Arten verwendet, da das Schaltungsmuster durch einen Computer gesteuert wird. 전자빔리소그래피
반도체 집적회로 제조과정에서의 회로 패턴의 기록방식을 말한다. 이 장치는 주로 원촌과 같은 크기, 또는 10배로 확대된 포토마스크를 만드는 데 사용된다. 포토마스크는 표면에 도포한 레지스트에 전사되며, 또 전자선 묘화장치로 직접 웨이퍼 표면의 레지스트에 묘화할 수도 있다. 이 직접묘화 방식은 컴퓨터에 의해 회로 패턴의 제어가 되므로 앞으로 다품종 소량생산에 이용될 것이다.
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Synonyme und Antonyme von 전자빔리소그래피 auf Koreanisch im Synonymwörterbuch
SYNONYME
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2 NACHRICHTEN, IN DENEN DER BEGRIFF «전자빔리소그래피» VORKOMMT
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