Definition von フォトリソグラフィー im Wörterbuch Japanisch
Photolithographie "Sowohl bei der" Photolithographie "als auch bei der" Photolithographie "wird ein lichtempfindliches Material, das als Photoresist bezeichnet wird, auf einen Siliciumwafer aufgetragen, und ein ursprüngliches Muster einer Schaltung wird als Retikel (Photomaske) bezeichnet. Eine Technik, um Licht durch Überlappen und Gravieren durch Ätzen oder dergleichen zu bestrahlen. Optische Lithographie. Lithographie. フォトリソグラフィー【photolithography】 《「フォトリトグラフィー」とも》半導体集積回路などの製造工程で、シリコンのウエハー上にフォトレジストという感光材料を塗布し、レチクル（フォトマスク）とよばれる回路のパターンの原板を重ねて光を照射し、エッチングなどで刻み込む技術。光リソグラフィー。リソグラフィー。
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10 BÜCHER, DIE MIT «フォトリソグラフィー» IM ZUSAMMENHANG STEHEN
Entdecke den Gebrauch von
フォトリソグラフィー in der folgenden bibliographischen Auswahl. Bücher, die mit
フォトリソグラフィー im Zusammenhang stehen und kurze Auszüge derselben, um seinen Gebrauch in der Literatur kontextbezogen darzustellen.
この方法を少しずつ改良するため、フェライトをできるだけ細く成形したり、巻き付けの技法を改良したり、フェライトにバリウムを添加して強化する方法がとられた。「薄膜へッド」は、フォトリソグラフィーを使い、シリコン・ウエハーに IC を作るのと同様の技術でヘッド ...
Clayton M. Christensen, 2012
2
Intermediate Technical Japanese, Volume 1: Readings and ...
リソグラフィ一技術で形成されたレジス卜パターンでおおわれている部分以外を選択的に除去する工程をいう. ... 現在最も多用されている光を用いるリソグラフィー(フォトリソグラフィー)は,耐食被覆にフォトレジストを用い,写真法で図形を転写することにより印刷用 ...
3
図解入門業界研究最新化学業界の動向とカラクリがよーくわかる本:
別膳報構ぴちべ因州械師離浦肝 9 師静養棚田鵬 2 フォトリソグラフィーの原理丶丶一ソリコノウェハー基板縄フォトレジスト塗布フオ卜レジス卜感光部携帯電話/薄型テレビ/パソコン/自動車/ポータブル音楽プレイャー携帯電話/薄型テレビ/パソコン/自動車/ ...
... いるものと^えられるお様のメカニズムによる脆化^動は純^の粒界水^脆化においても,筆者らによって報^されている 1 ' :写真 4 に高強度, ^靱性を発現する'お析^ -〜ナノ結晶合金をフォトリソグラフィー技術と組み合わせることによりマイクロ成形した例を/おす。
5
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み: プロセスの全体を俯瞰する : あなたの知らない半導体の秘密がわかる
リソグラフィもこれと似た原理です。通常、光(可視光から紫外光)を使用するので、光を表すフオト〈 Ph 。 t 。)という言葉を入れてフォトリソグラフィ(Ph。t。 Lith 。 graphy )といいますが、ここではフォトリソグラフィを単にリソグラフィと呼んで話を進めます。
6
図解入門業界研究最新半導体業界の動向とカラクリがよーくわかる本:
半導体の微細な回路形成を実現する技術がフォトリソグラフィです。加工には、印刷などで利用される製版の技術を応用することで、複雑な半導体の回路パタ—ンをウェハ上に転写していきます。このフォトリソグラフィは、さらに細かい工程に分けられており、「感 ...
p 側電極形成領域が空いているレジストマスクをフォトリソグラフィ技術で形成します。続いて電極材料を蒸着してから、レジストと余分な電極材料をリフトオフ加工して除去すると上部動作層( D 型 GaN 層)の表面に透明電極が形成されます。図 2 - 5 - 3 透明電極 ...
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Denki Tsūshin Kenkyūjo Kenkyū Jitsuyōka Hōkoku [Electrical ...
小暮攻"'あらましパターンサイズにより電子線-光を使いわける,電子線'光併用リソグラフィが最近注目されている.我々はこの併用 ... しかし,フォトリソグラフィは光の问折効果等のため解像性に限界があり何らかの衬処が必要である.光の波長を.短くすることにより ...
Nihon Denshin Denwa Kōsha. Musashino Denki Tsūshin Kenkyūjo, 1984
アイパパそれはね、光と写真の原理を利用した「フォトリソグラフィ」という技術で、基板上に部品をつくっていくんだ。まず、つくりたいICチップの回路パターンを透明なガラス板に印刷する。これを「フォトマスク」という。次に、感光剤をぬ塗ったウェハの上からフォト ...
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Technology reports of the Kyushu University - 第 67 巻 - 260 ページ
本研究で用いた隔極酸化法を,図一 1 に示す.目的とする金厲を陽極とし,電解質液に浸した電極を陰極として,陽極側金属の酸化を行う.フォトリソグラフィ一法によるパターニングと,この隔極酸化を用いることによってトンネル接合の加工成型を行う.陽極酸化液には, ...
Kyūshū Daigaku. Kōgakubu, 1994
10 NACHRICHTEN, IN DENEN DER BEGRIFF «フォトリソグラフィー» VORKOMMT
Erfahre, worüber man in den einheimischen und internationalen Medien spricht und wie der Begriff
フォトリソグラフィー im Kontext der folgenden Nachrichten gebraucht wird.
シリコンを塗布・印刷する
従来の真空技術やフォトリソグラフィー技術を駆使した方法に取って代わる新しい製造技術「グリーンプロセス」に関する研究発表が、「第76回応用物理学会秋季学術講演会」（2015年9月13～16日、名古屋国際会議場）で相次いだ。そこで、月1回の連載コラム「 ... «日経テクノロジーオンライン, Sep 15»
慶大、世界最高性能の光ナノ共振器を作製−汎用的なＣＭＯＳプロセスで …
集積回路に積みやすいシリコン薄膜にナノ寸法の穴を周期的に開けたフォトニック結晶構造を利用。この構造を使うと、 ... フォトリソグラフィーで作製した共振器としては世界最高となる光の閉じ込め性能（Ｑ値＝２・２×１０の５乗）を達成した。 さらに光回路で信号 ... «日刊工業新聞, Jul 15»
富士フイルムとimec 有機半導体用フォトレジスト技術を用いてフルカラー …
富士フイルムとimeｃは，平成25年に，大型基板上で高解像度パターニングができるフォトリソグラフィー方式（*5）で，有機半導体材料へダメージを与えずにサブミクロンオーダーのパターン形成が可能な有機半導体用フォトレジスト技術を開発。新技術は，既存のｉ ... «Gihyo Jp, Jun 15»
タッチパネル材料 進むＩＴＯ代替
こうしたトレンドを踏まえて、ＤＩＣは従来のフォトリソグラフィープロセスを簡易な印刷法に代替できるプロセス技術を開発した。銀メタルメッシュや銅ワイヤーを低コストで形成できるのが特徴であり、実用化を急いでいる。「スマートフォン大手が売れ筋機種を非ＩＴＯ ... «ヘッドライン ニュース, Jul 14»
単層カーボンナノチューブを効率的に分散できる分散剤
SWCNTのデバイス実装技術を目指した光応答性分散剤の固体中での光反応については、この分散剤を用いてSWCNT分散液由来の固体膜を作成し、フォトリソグラフィーによるSWCNT薄膜の微細加工技術の開発へと展開していく予定である。 «産業技術総合研究所, Mai 14»
液晶を用いた気体分子のキラリティの簡便な検出法
自己組織化に基づいたボトムアップ型加工技術に対して、フォトリソグラフィーなど、構造の各細部の情報をトップダウン的に逐次与えて組み合わせることで所望の精密構造を得る微細加工技術の研究開発も進められている。 [参照元へ戻る]; ◇鋭敏色板: 偏光 ... «産業技術総合研究所, Apr 14»
【中国タッチパネル戦略（1）欧菲光】世界トップクラスのシェアへ急成長
従来のフォトリソグラフィー法ではなく、印刷法によって製造します。化学強化処理したカバーガラスに直接、ナノ銀粒子による2層の電極を印刷します。透明導電フィルムを省けるため、タッチパネルの薄型・軽量化につながります。また、透明導電フィルムをカバー ... «Tech On!, Apr 14»
世界最小、配線幅３μmの超微細インクジェット銅配線技術を開発
ところが、従来のICパッケージ用配線パターン作製工程には、フォトリソグラフィー装置が用いられており、微細なパターン描画の限界を迎えています。本プロジェクトで研究された超微細インクジェット技術は、従来のICパッケージ基板用フォトリソグラフィー装置 ... «産業技術総合研究所, Okt 13»
新しい相変化型の光記録材料を開発
そのために、有機合成的手法を用いて化学構造の最適化を図るとともに、酸素を除いて密封加工するなど薄膜化プロセスの改善も行っていく予定である。また、光情報記録以外にも、この相変化材料の特性を活かしたフォトリソグラフィーなど、さらなる応用展開を ... «産業技術総合研究所, Apr 13»
リソグラフィーパターンを反映できる回路特性解析システムを開発
近年、LSIの発展に伴い、そこで使われるトランジスタは微細化の限界に迫ろうとしており、最新のフォトリソグラフィー技術を用いてLSIパターンを描画しても、パターンが理想形状からずれてしまう問題が顕著になってきている。そのようなずれが回路性能にどの ... «産業技術総合研究所, Apr 13»
