कोरियनशब्दकोश में 하프늄 की परिभाषा
हेफ़नियम यह आवधिक तालिका के समूह 4 से संबंधित एक धातु तत्व है। तत्व का प्रतीक एचएफ है और परमाणु संख्या 72 है। 하프늄
주기율표 4족에 속하는 금속원소로, 원소기호는 Hf이고, 원자번호 72이다.
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कोरियन किताबें जो «하프늄» से संबंधित हैं
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하프늄 aसे संबंधित किताबें और कोरियन साहित्य में उसके उपयोग का संदर्भ प्रदान करने वाले उनके संक्षिप्त सार।.
기등을 판매했고 하프늄 탄두가 탑재된 중거리 탄도미사 일(IRBM)까지 판매했다는 첩보가 들어왔어.” 하프늄 폭탄은 하프늄 1g으로 TNT 50kg에 맞먹는 폭 발력을 얻을 수 있는 새로운 차세대 폭탄이다. 이미 20년 전에 하프늄의 원자핵이 저장하고 ...
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ASTM Manual on Zirconium and Hafnium - 9페이지
The U.S. Navy Nuclear Propulsion Program procures both zirconium and hafnium to a comprehensive production code. Grade R6000! (Grade Rl, Grade 21, Reactor Grade) This grade is hafnium-free unalloyed zirconium with a long list of ...
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The Radiochemistry of Zirconium and Hafnium - 3011호 - 10페이지
Ellis P. Steinberg. The thiocyanate complexes of zirconium and hafnium exhibit differences in extractability into ethyl ether and a separation ( 12} may be achieved. v ' Prom 8 M. HN0^j zirconium extracts only to the extent of 8# into ethyl ether.
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Analytical Chemistry of Zirconium and Hafnium: ... - ix페이지
PREFACE ZIRCONIUM and hafnium have many interesting physical and mechanical properties such as corrosion resistance and mechanical strength of metals and alloys at both low and elevated temperatures. The transparency of zirconium ...
Anil K. Mukherji, R. Belcher, M. Frieser, 2013
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Organometallic Chemistry of Titanium, Zirconium, and Hafnium
P.C. Wailes. A1. A2. A3. A4. A5. A6. A7. A8. A9. A10. A11. A12. A13. A14. A15. A16. A17. A18. A19. A20. A20a. A21. A22. Bibliography Abel, E. W., and Jenkins, C. R., J. Organometal. Chem. 14, 285 (1968). Adema, E. H., J. Polym. Sci., Part C ...
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Dictionary of Inorganic Compounds - 303페이지
Copper compd. with hafnium (8:3), in IC-Öl 7894 Cu51HfI4 Copper compd. with hafnium (51:14), in IC-Öl 7894 D2Hf Hafnium deutende (HfD, 628), in IC-019219 F2HfO Hafnium(/(0 fluoride oxide (HfF2O), IC-018166 F4Hf >Hafnium(/IO fluoride ...
«하프늄» पद को शामिल करने वाली समाचार सामग्रियां
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한국 주도 메모리시장, 중국·독일 잇단 도전장
FMC는 하프늄 산화막(HfO2)을 활용한 강유전체(Ferroelectric) 반도체 기술을 인정받아 설립한 회사다. 72번 원소인 하프늄을 활용해 '꿈의 반도체'로 불렸던 F램을 ... «디지털타임스, सितंबर 15»
GIST, 대면적 인쇄 가능 전자소자 제작
전력 소모를 낮추기 위한 해결책으로 높은 유전율을 지니는 알루미늄 옥사이드(AlOx), 하프늄 옥사이드(HfOx)와 같은 무기 산화물 절연체로 구성된 고품질 ... «대덕넷, सितंबर 15»
서울대 한승우 교수 연구팀, 차세대 소재원천기술 기반 마련
선별한 물질은 기존에 연구하던 하프늄옥사이드나 지르코늄옥사이드보다 뛰어난 물성을 갖고 있다. CPU, DRAM, 플래시 등에 적용하면 수십배 성능 향상을 기대할 ... «전자신문, जून 15»
신물질로 만든 10억분의1m 측정 기준자 나왔다
표준연이 개발한 인증표준물질은 실리콘 기판 위에 실리콘 산화막을 1마이크로 미터 두께로 씌운 뒤, 그 위에 수 나노미터 두께의 하프늄 산화막을 원자층 단위 두께로 ... «대덕넷, सितंबर 12»
3000년전 중앙아프리카 열대우림 누가 없앴을까
그 결과, 4만 년 전부터 3000년 전까지 퇴적물의 성분과 크기는 크게 변화가 없었는데, 3000년 전부터 갑자기 토양에서 알루미늄과 칼륨이 많이 유실되고 하프늄 동위 ... «동아사이언스, फरवरी 12»
인텔, 신소재 '하프늄'으로 45나노 반도체 시대 활짝
11일(현지시각) 인텔이 해외 언론에 배포한 보도자료에서 “실리콘 다이옥사이드(SiO²; 이산화규소) 대신 하프늄(Hafnium) 신소재를 기반으로 한 하이케이(고유전율, ... «조선일보, नवंबर 07»