Значение слова "プレーナー‐ぎじゅつ" в словаре японский языка

ПРОИЗНОШЕНИЕ СЛОВА プレーナー‐ぎじゅつ

ぷれーなー
プレーナー	‐ぎ	じ	ゅ	つ
pure-na-		zi	xyu	tu

ЧТО ОЗНАЧАЕТ СЛОВО プレーナー‐ぎじゅつ

Значение слова プレーナー‐ぎじゅつ в словаре японский языка

Технология изготовления полупроводниковых интегральных схем на кремниевых подложках. Плоская технология. Верхняя поверхность кремниевой подложки окисляется, покрывается пленкой из оксида кремния, затем удаляется оксидная пленка в положении, определяемом фотолитографией, происходит диффузия примеси в этом положении и т. Д. Создается интегральная схема.

プレーナー‐ぎじゅつ【プレーナー技術】 《planar technology》シリコン基板上に半導体集積回路を作製する技術。シリコン基板の上面を酸化させて、シリコン酸化膜で覆い、次にフォトリソグラフィーにより決められた位置の酸化膜を除去し、この位置に不純物拡散を行うといったプロセスを繰り返して集積回路を作り上げていく。

ПЕРЕВОД СЛОВА プレーナー‐ぎじゅつ

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КНИГИ НА ЯПОНСКИЙ ЯЗЫКЕ, ИМЕЮЩЕЕ ОТНОШЕНИЕ К СЛОВУ «プレーナー‐ぎじゅつ»

Поиск случаев использования слова プレーナー‐ぎじゅつ в следующих библиографических источниках. Книги, относящиеся к слову プレーナー‐ぎじゅつ, и краткие выдержки из этих книг для получения представления о контексте использования этого слова в литературе на японский языке.

戦後機械工業発展史 - 211 ページ

3 プレーナー技術の重要性集積回路の基本構造に関する特許は米丁 I 社が獲得していたが、その製造法に関する重要な技術は米フェアチャイルド社が昭和 34 年に開発したプレーナー技術であった。トランジスタは真空管にくらベて原理的には無限に近い寿命を ...

日本機械工業連合会, 1982

科学技術の発展過程に関する分析 - 50 ページ

丁度この頃, 1950 年代末から 1960 年初頭にかけては,半導体にっいての新しい技術革新の波が押し寄せている。 1959 年 5 月には,メサ型の腐食の欠点を克服したシリコン'プレーナー技術が発明され, 1960 年にはエピタキシャル技術が完成し,両者を合わせた ...

柴田治呂, ‎総合研究開発機構 (Japan), 1982

通史日本の科学技術: 第2卷 - 451 ページ

当時のトランジスタ技術は、とうに物理学者の興味の対象ではなくなっていたが、工学的にはなお不確定の部分を残していた。それがプレーナー技術に立脚した集積回路技術のアイデア出現により、「ノーマル'テクノロジー」へと変貌したのである。ここでノーマル ...

Shigeru Nakayama, ‎後藤邦夫, ‎吉岡斉, 1995

日本の産業システム 3 サイエンス型産業 - 222 ページ

芝,日立)は, RCA とトランジスタの技術移転契約を結んだ・その製造方法は,陳腐化していた合金法に基づくものであっ ... のトップ企業になった・ 用化された IC は,どのように IC 産莱への各人では・プレーナー技術に基づいて 1960 年代前半に実 222.

後藤晃, ‎小田切宏之, 2003

現代の半導体企業 - 39 ページ

乙が)の開発したメサトランジスタより格段に優れたプレーナートランジスタを 1959 年に開発したことが大き〈影響している。このプレーナー技術の発明によりトランジスタの性能は大幅に上昇し,この】.八.ホーニの特許は半導体の基本特許の一つとなった。ほぼ同 ...

肥塚浩, 1996

知的財産の歴史と現代: 経済・技術・特許の交差する領域へ歴史からのアプローチ

経済・技術・特許の交差する領域へ歴史からのアプローチ 石井正 226 服するかという技術的課題を、へル二—はシリコン ... 12 接合を形成するとその表面は外部かしかしこの時、へル二—はこのプレーナー技術に加えてさらに重要なアイデアを生み出であった。

石井正, 2005

国際・学際研究システムとしての日本企業: - 234 ページ

Masahiko Aoki, ‎ロナルド・P・ドーア, 1995

ビジネスの歴史 - 204 ページ

その最大の貢献は,シリコン半導体の表面を酸化処理して内部を保護するプレーナー技術である。これによって,シリコン・トランジスタの真空管に対する優位性が決定的に確立したのである。このフェアチャイルド社からは,後述するインテル社をはじめとして,多くの ...

鈴木良隆, ‎大東英祐, ‎武田晴人, 2004

図解入門ビジネス最新MOTの基本と実践がよーくわかる本: gijutsusha to kigyō no tame ...

そのほかにも社団法人日本半導体製造装置協会や、光産業技術振興協会の光テクノロジーロードマップ(情報通信、情報記録、デイスプレイ、ヒューマンインタフ工一ス、計測,センシング、光工ネルギー ... 丁が置産開始されるまでの期間とプレーナー型バルク!

出川通, 2009

実践図解パーフェクトMOT - 432 ページ

ー。 gy R。admap f。r Semic。nduct。r)と呼ばれる国際的な業界団体の作った有名な技術口一ドマップについて示してみましよう。 ... 期間とプレーナー型ノヾルク M 。 SFET ゃ FD 一 S 。ーがスヶ一リング限界に到達した後の期間を示している(半導体技術ロード ...

出川通, 2011