«かがくきそう‐たいせきほう» தொடர்புடைய ஜாப்பனிஸ் புத்தகங்கள்
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高校化学からはじめる半導体 - 132 ページ
その一種で,有機金属原料を用いる有機金属気相堆積法これまで紹介した結晶成長法では,作りたい物質を融解・溶解するか ... これは一般に化学的気相堆積法(CVD)とよばれており,特にエピタキシーを行う場合は気相エピタキシー(VPE)といいます(基板の上に ...
この方法は、原料に有機金属(metal organic)を用いた化学気相推積法( demiáva 説 rádoá : CVD 法)の頭文字をとって MOCVD (有機金属化学気相堆積法)あるいは、 MOVPE (有機金属気相エピタキシー)と呼ばれています。 MOCVD では、常温、常圧で ...
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図解入門よくわかる最新薄膜の基本と仕組み: - 77 ページ
物質堆積法-薄膜形成法" ! 1852- ―気相成長法「驪きレスパッタ法-化学的堆積法- -多元同時蒸着フラッシュ蒸アーク蒸発卜単純物理蒸着ョ法(多溫度法)レーザアブレーシヨン反応性スパッタ法同時スパッタ法^単純スパッタ法のじ闩ド) |「イオンビームスパッタ法 ...
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東北大学百年史 - 第 1 巻 - 555 ページ
ング法による機能性多層薄膜の形成、.0 じ VI 5 :法(有機金 田ニ郎が技官として採用され、翌. 555 第 8 章マテリアル'開発系三学科および大学院三専攻 写呢—属化学気相堆積法)による人工不働態皮膜の合成、半導体デ^ 0 年お料化学講座の時代になって ...
1 ^ ^テクニカルライブラリーのご案内 1 —ぐ《害籍をご購入の際は、最寄りの害店にご注文いただくか、(株)シ一ェムシー出版の ... す:フラズマ応用薄膜形成技術/触媒化学気相堆積法/コンピナ卜リアルテクノロジー/パルスパワー技術/半導体薄膜の作製(高誘電 ...
... 〔 672 号公衆電話学気相法,化学堆積法) 60 し 67 し 190 厂, 198 「, 213 产 344 ^化学修飾ヘモグロビン人工赤血球 164《化学繊維壁紙 746 化学的プレンド法 122《化学バリア材 63 ;"化学反応熱利用長期蓄熱システム 26 2 化学用体積計 430『化学レーザ ...
Yoshirō Iijima, Takashi Mukaibō, 1986
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Researches of the Electrotechnical Laboratory
1.3 アモルファスシリコンのブラズマ化学気相成長とその診断本節では,本研究における診断の対象となるアモルファスシリコンの ... 酸化反応等の気相化学反応を起こして成膜を進行させる化学堆積法 2 "などは,じマ 0 プロセスの低温化を実現した例である。
Denshi Gijutsu Sōgō Kenkyūjo, 1988
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科学技術の最前線: 「日本の頭脳」 を現場に追う - 24 ページ
「日本の頭脳」 を現場に追う 尾崎正直, 山中千代衛, 三田出版会 24 る励起じ〉 0 (気相化学堆積)法、高真空でごく薄い層をゆっくり堆積していく^ 82 (分子線松波グ 1 ! 1 放電を利用したプラズマや紫外線など、原子,分子の励起状態を活用して薄膜を堆積す尾崎 ...
尾崎正直, 山中千代衛, 三田出版会, 1990
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Technology reports of the Kyushu University - 第 73 巻 - 393 ページ
しかしながら,イオン注入には結晶欠陥の形成や非晶質化が伴つており,さらなるデバィスの化のためにはこれらの過程を原子 ... 酸素ィ才ン注入直後の 51\10乂基板に化学気相堆積法によって 5 に薄膜を成長し,窒素雰囲気で熱処理することにより,界面状態 ...
Kyūshū Daigaku. Kōgakubu, 2000
