7 ЯПОНСЬКА КНИЖКИ ПОВ'ЯЗАНІ ІЗ «ひかり‐リソグラフィー»
Дізнайтеся про вживання
ひかり‐リソグラフィー з наступної бібліографічної підбірки. Книжки пов'язані зі словом
ひかり‐リソグラフィー та короткі уривки з них для забезпечення контексту його використання в японська літературі.
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図解入門よくわかるナノテクノロジーの基本と仕組み: 超微細スケールの世界
光リソグラフィ一の限界と弱点微細加工技術のチャンピオンたる光リソグラフィーにも限界と弱点があります。それは光の波長です。光を当ててできるマスクの影を利用する技術なので、光の波長よりも小さいパターンは、ぼやけてしまうのです。 0 微小化の問埋一.
光リソグラフィー技術が理論的限界に近づいた」という業界の専門家の発言が、ほぼ5年ごとに時計のように規則正しく新聞を賑わす。この業界の性能向上を測る主要な指標は、マイクロチップ上のトランジスタの幅である。幅はミクロン単位で計測される。1ミクロン ...
Clayton M. Christensen, Scott D. Anthony, Erik A. Roth,
2014
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図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み: リソグラフィ技術の核心に迫る
一レイリーの式この章では光リソグラフィの技術論を解説しますが、まずは光リソグラフィの原理を押えておきましょう。ここでは光リソグラフィの光学的な基礎を学びたいと思います。贋光リソグラフィとは現在の光リソグラフィは A 所のー 93nm までを含めています ...
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知のシーズ集2013: 京都工芸繊維大学創造連携センター
ワ一ド可視光レーザーレーザーアプレーション金ナノ粒子ナノ加工 H 言\津吠守ヘ寸膚刈 C 諸劇肝藺一沌一マ頴苗圓膚腫の概要現在のナノ加工では極短波長レーザーを用いた光リソグラフィーなどの手法が用いられています。しかしながら、光の回折限界の ...
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図解入門よくわかる最新半導体ナノプロセスの基本と仕組み:
Year 贋光リソグラフィとは現在の光リソグラフィは ArF のー 93nm までを含めています。人によっては極紫外光を使用するという意味で EUV (ー 35nm )までを含めるというかもしれませんが、学会などでの扱いは光リソグラフィとは別のジャンルになっています。
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メイド・イン・ジャパンの逆襲: 注目技術の核心
ひとつは光リソグラフィです。ー 980 年代には光リソグラフィの限界が来るといわれた時もありましたが、結局今も光リソグラフィが残っています。その他には平坦化プロセスなどがあります。今では CMP *を導入することによって解決しています。さらには半導体 ...
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日米の技術競争力: 徹底検証 - 77 ページ
リソグラフィ技術は微細化のキ—ニアクノロジ—である。これは大きな寸法で描かれたマスクバタ—ンをチップに転写する技術であり、現在は光を使う縮小投影型の光リソグラフィが主流である。この場合、用いる光の波長を短くすればするほど加工精度を上げる ...