Визначення レチクル у японська словнику
Ретинак 【сітки】 "І резинка, і лінія" 1 хрест, призначена для націлювання на 1 телескоп ". レチクル【reticle】 《「レティクル」とも》１ 望遠鏡の視野に照準のために設けられた十字線。
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10 ЯПОНСЬКА КНИЖКИ ПОВ'ЯЗАНІ ІЗ «レチクル»
Дізнайтеся про вживання
レチクル з наступної бібліографічної підбірки. Книжки пов'язані зі словом
レチクル та короткі уривки з них для забезпечення контексту його використання в японська літературі.
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図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み: リソグラフィ技術の核心に迫る
レチクルとマスクの違い?ここでは細かいことかもしれませんが、レチクルとマスクの違いを説明しておきま“讃す。ただし、実際の用語の使い方としては、レチクルもマスクと呼ばれて使用されるこ”`”`"〝~とが多いです。レ一麦一ク」~と度こ,一一, ,一【一一一一一一 ...
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これで半導体のすべてがわかる!: - 106 ページ
ステッパー装置の代表的会社には、ニコン.キャノンなどがある。レチクル拡大して描画されたフォ卜マスクを「レチクル」と呼ぶ。このレチクルによって、ゥエー八'パターンより原版としての精度がー段と要求されるフオ卜マスクの描画^作成工程に余裕ができるように ...
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図解入門よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み: 製造装置の全体を俯瞰する
リソグラフィ一に欠かせない露光装置^ ^ ^ ^ ^ ^ ^露光装置は光源の光でマスク(レチクル)のパターンを感光性レジス卜に焼き付ける装置です。半導体製造装置のシンボル的な装置で価格も先端の装置ですと何十億円のものです。 0 露光装置の歴史コンタク卜露 ...
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The Transactions of the Institute of Electronics and ...
32]探知采に用いるうず巻状レチクル正員濘田川勝す正員提捨男付非会員山田寿夫亭濡怖 5 幟遮咽 1 咽マ 01 咽覧 8 麗 6 亡貫。 16 咽 86 紐垣 0 咽垣じ麗 1 868 丈。厄咽喧 8 シ 8 驚 8 叩肌 85 町咽丁 3 じ口八 0 八珊八セ 5 咽セ 6o 丁 8 じ丁 8 ロ忸 1 拭混 ...
Denshi Tsūshin Gakkai, 1979
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図解入門よくわかる最新半導体の基本と仕組み: 半導体/LSIテクノロジー入門
拡大して描画されたフオ卜マスクを「レチクル」と呼びます。ステッパーによってレチクル上の寸法は、ゥエ一八上に 0.1 〃卬パターンとして焼き付けることができます。そして、もしレチクル(フオ卜マスク)に 4 チップが配置されていたとしたら、 1 区画が 4 チップに ...
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Transactions of the Society of Instrument and Control ...
まえがき乙 31 回路のレチクルパターンでは,これに欠陥があるとそのままマスクパターンに転写され,作られるし 31 がすべて欠陥品となるため厳密な検査が要求される.このような回路パターンの原画ともいうべきレチクルパタ一ンの欠陥を高い^頼度で検出する ...
Keisoku Jidō Seigyo Gakkai (Japan), 1988
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Yamagata Daigaku kiyō: Kyōiku kagaku - 第 6 巻 - 131 ページ
このように,試料 1 から 4 までの一致性の係数が異なることは,二重レチクル線の中でとらえる中^ !置の弁別が,二重レチクル線の間隔によつて影響されることを示すものと思われる。上に論じた各心理尺度は,式ほ)により求めたものである。それは! " 31006 V ...
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Transactions - 第 24 巻、第 7～12 号 - 75 ページ
まえがきし 31 回路のレチクルパターンでは,これに欠陥があるとそのままマスクパターンに転写され,作られる乙 31 がすべて欠陥品となるため厳密な検査が要求される.このような回路パターンの原画ともいうべきレチクルパタ一ンの欠陥を高い信頼度で検出する ...
Society of Instrument and Control Engineers, 1988
9
星座・天文: 萌えて覚える宇宙の基本 - 131 ページ
昌レチクル座はとけい座とかじき座の間にあるひし形をした小さな星座で、南天では大マゼラン雲の西側にある精ー月中旬午後 8 時見来来=月中旬午前 0 時凧隷来来来離来旧の繍排{離の円川/ m ... u c 廿 e 円号略/ぎ名 6 学一網味日 4 月離掘 M 腕一の m ー ...
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図解入門よくわかる最新半導体ナノプロセスの基本と仕組み:
言い換えますと微細なパターンのモールドの作製を等倍で作る点とその耐久性(何度も被転写層とハードコンタクトする)が課題になるわけです。等倍で微細パターンを作るというのは光リソグラフィですと 4 倍から 5 倍の大きさのパターンのマスク(レチクル)を作り、 ...
НОВИНИ ІЗ ТЕРМІНОМ «レチクル»
Дізнайтеся, що обговорювала національна та міжнародна преса, і як термін
レチクル вживається в контексті наступних новин.
【コラム】航空機とIT 第66回 航空機用電子デバイス(8)表示デバイス[その2]
例えばの話、真正面にいる敵機に対して機関砲の狙いをつけて撃ったつもりが、照準用のレチクルを表示する位置がズレていたので狙いが外れました、なんてことになったらシャレにならない。 もっとも、そういう話になると、前回に触れた「HMD(Helmet Mounted ... «マイナビニュース, Жовтень 15»
インフラ維持管理の効率化を目的とした画像計測ソリューション「Nivo-i」を …
画面上に表示されている画像内で、画面の中心に合わせたいポイントをタップ指示すると、自動的に表示されているレチクルの中心に移動します。 5. ライブビューの外部出力 ... 多彩な計測作業に適したレチクルパターンの変更が可能。 【ニコン・トリンブル ... «SankeiBiz, Вересень 15»
ニコンが展望する10nm以下のリソグラフィ技術（後編）
前編の後半では、10nm世代以降の微細なパターンを量産するときには露光装置（スキャナー）のオーバーレイ（重ね合わせ）誤差が量産の可否を左右することと、露光の繰り返しによってスキャナーのレチクルとレンズが加熱されて変形することがオーバーレイ ... «EE Times Japan, Серпень 15»
第182回 メモリIPにまつわるエトセトラ
当然、自分プロセスのマスク（実際にはレチクル）枚数を把握している人でないと、この売りは心に響かない種類の売りである。 そして、第二の不揮発メモリ技術「ゼロマスクシリーズ」の売りは、追加マスク「ゼロ」、単層ポリシリコンプロセスである。こちらはなんと ... «@IT, Липень 15»
サイバーオプティクスがフォトリソグラフィックスキャナーの粒子の問題を …
サイバーオプティクスのフィールドアプリケーションエンジニアのハヤシ・ユキノブが、4月21日（火）の17:25〜19:10にポスタープレゼンテーションを行い、レチクルマスク環境の浮遊粒子に関連した処理で、効率・効果を改善する方法について説明します。 «Business Wire, Квітень 15»
SEMI、2014年世界半導体製造装置販売額は前年比18%増と発表
この金額には、ウェハプロセス用処理装置、組立およびパッケージング装置、テスト装置、その他前工程装置(マスク/レチクル装置、ウェハ製造装置、半導体製造装置用関連装置)が含まれる。 地域別では、台湾を除くすべての地域で販売額は増加。台湾の販売 ... «マイナビニュース, Березень 15»
矮小銀河からガンマ線、ダークマター粒子対消滅の証拠の可能性
最近発見された天の川銀河の伴銀河の1つである「レチクル座2」から、ガンマ線が初めて検出された。このガンマ線は、長い間理論的に予測されてきたダークマター粒子の対消滅の証拠ではないかと考えられている。 «アストロアーツ, Березень 15»
【レポート】SEMICON Japan 2014 - 10nmにArF液浸のマルチ …
NSR-S630Dは投影レンズ性能の向上とレチクルステージ位置計測のエンコーダ化、温空調システムの改良により、MMO(Mix and Match Overlay:同一機種間の重ね合わせ精度)を2.5nm以下にしつつ、毎時250枚以上(96shots)のスループットを実現した露光 ... «マイナビニュース, Грудень 14»
2014年の半導体製造装置市場は前年比19.3%増の約380億ドル - SEMI
... 割合となるウェハプロセス処理装置の販売額が、2014年では前年比17.8%増となる299億ドルで、組立およびパッケージング装置が同30.6%増の30億ドル、テスト装置が同26.5%増の34億ドル、そしてファブ設備、マスク/レチクル製造装置、ウェハ製造装置を ... «マイナビニュース, Грудень 14»
KLA、5Dパターン形成制御ソリューション向けに3種類の装置を発表
KLA-Tencorは8月26日、PWGパターン付きウェハ平坦度測定装置「WaferSight」、レチクルレジストレーション計測装置「LMS IPRO6」、および最先端データ解析装置「K-T Analyzer 9.0」を発表した。 同製品群は、独自の5Dパターン形成制御ソリューションを ... «マイナビニュース, Серпень 14»
