ЩО リソグラフィー ОЗНАЧАЄ У ЯПОНСЬКА?
Літографія
Літографія ▪ Намалювати малюнки та літери на літографії. Див. Літографія. ▪ Скорочення для фотолітографії. Метод створення певного малюнка шляхом часткового висвітлення світлочутливої речовини. Він використовується для створення напівпровідників, інтегральних мікросхем, друкарських форм. ...
Визначення リソグラフィー у японська словнику
Літографія 【літографія】 1 "Літографія", а також "Літографія" (мистецтво).
4 ЯПОНСЬКА КНИЖКИ ПОВ'ЯЗАНІ ІЗ «リソグラフィー»
Дізнайтеся про вживання
リソグラフィー з наступної бібліографічної підбірки. Книжки пов'язані зі словом
リソグラフィー та короткі уривки з них для забезпечення контексту його використання в японська літературі.
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図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み: リソグラフィ技術の核心に迫る
プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
京都にこんな経営者がいた。創業のフォトリソグラフィー(画像形成)技術を原点に企業グループ100社構想に向けて燃やし続ける「思考展開」の情熱とは。
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Denki Tsūshin Kenkyūjo Kenkyū Jitsuyōka Hōkoku [Electrical ...
小暮攻"'あらましパターンサイズにより電子線-光を使いわける,電子線'光併用リソグラフィが最近注目されている.我々はこの併用リソグラフィ用として,電子線のみならず光にも感応するレジストを開発するために分子設計からポリマ合成,特性,评価まで行った.
Nihon Denshin Denwa Kōsha. Musashino Denki Tsūshin Kenkyūjo,
1984
НОВИНИ ІЗ ТЕРМІНОМ «リソグラフィー»
Дізнайтеся, що обговорювала національна та міжнародна преса, і як термін
リソグラフィー вживається в контексті наступних новин.
TSMC、5nmプロセスにおいて「EUVリソグラフィー」を導入する計画を …
なお、EUVリソグラフィーの主な利点としては、わずか「13.5nm」という通常の紫外線よりも遥かに波長の短い光を露光に用いる点にあります。従来的な技術ではEUVよりも圧倒的に波長の長い紫外線を、「パターニング」という工程を何度か繰り返す（＝マルチ ... «ガジェット速報, Липень 15»
カーボンナノチューブ集積化マイクロキャパシターを開発
キャパシター電極材料として有望な、スーパーグロース法で作製した高純度で比表面積の大きい単層CNTを用いて、リソグラフィーによるCNT膜電極微細加工技術と電極隔離技術を開発し、超小型で集積化されたキャパシターを開発した。今回開発したCNT集積 ... «産業技術総合研究所, Липень 15»
兵庫県立大、ＥＵＶリソグラフィーのフォトマスク評価向け顕微鏡を開発
【神戸】兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィー（露光）のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開発した。従来の原子間力顕微鏡とは異なり、Ｘ線で非接触計測できる手法を ... «日刊工業新聞, Квітень 15»
次世代リソグラフィー
半導体LSIの高性能化と低コスト化を支える微細化技術。その要となるのが、露光マスクのパターンをSiウエハー上の感光材（レジスト）に転写し、線幅がナノメートル（nm）級の微細な回路パターンを形成するリソグラフィー（lithography）工程である。 リソグラフィー ... «Tech On!, Грудень 14»
真空より低い屈折率を実現した三次元メタマテリアルを開発
現在、微細加工技術の代表として光リソグラフィー技術を用いた半導体製造プロセス技術があり、この技術は、線幅20nm（ナノメートル：1ナノメートルは10億分の1メートル）の配線パターンからなる大規模集積回路を加工できます。しかし、光リソグラフィー技術は ... «理化学研究所, Жовтень 14»
半導体プロセスまるわかり EUVは微細化の救世主となるか？
これまでも露光(リソグラフィー)の話は折々で説明した。例えば連載第238回でトランジスタの形成の説明をした時には、簡単に「フォトレジスト」で済ませているが、これが結構大変なのである。 露光というプロセスは名前の通り「光に晒す」工程である。実際には ... «ASCII.jp, Травень 14»
キヤノンがMolecular Imprintsの半導体事業を買収
ナノパターニング・システムとソリューションの市場と技術をリードするMolecular Imprints Inc.（MII）は14日、同社の半導体インプリントリソグラフィー装置事業を日本のキヤノンに売却する合意に調印したと発表した。キヤノンは現在、KrFエキシマおよびi-Line露光 ... «共同通信PRワイヤー, Лютий 14»
世界最小、配線幅３μmの超微細インクジェット銅配線技術を開発
ところが、従来のICパッケージ用配線パターン作製工程には、フォトリソグラフィー装置が用いられており、微細なパターン描画の限界を迎えています。本プロジェクトで研究された超微細インクジェット技術は、従来のICパッケージ基板用フォトリソグラフィー装置 ... «産業技術総合研究所, Жовтень 13»
光を当てるだけで何度でも望む場所を加工できるヒドロゲルを開発
化学反応は光照射された部分でのみ進行するため、リソグラフィー微細加工が可能です。さらにこのプロセスは、半永久的に安定な酸化チタン触媒を用いるので、水と光さえあれば何度でも繰り返すことができます。この成果は、ヒドロゲルの用途を飛躍的に拡張 ... «理化学研究所, Липень 13»
3Dプリンタはここまで来た―Form Labsのステレオリソグラフィー方式の …
Form 1はステレオリソグラフィー方式〔Form 1はこの図とは上下が逆のメカニズム〕の3Dプリンタだ。この点は非常に重要だ。われわれに馴染みがある3DプリンタはMakerbotのような細い素材フィラメントをノズルから押し出して対象を整形する方式だ。これに ... «TechCrunch, Червень 13»