与 «フォトマスク»相关的日语书籍
在以下的参考文献中发现
フォトマスク的用法。与
フォトマスク相关的书籍以及同一来源的简短摘要提供其在 日语文献中的使用情境。
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The Transactions of the Institute of Electronics and ...
4 デバイスの特性亀子ピ一ム直接描画とフォトマスクの餅用で製作したアルミゲート 6 助 05 マスグ―スラィスし 51 の特性を全工程フォトマスクで製作したものと比咬することにょつて直接描画餅用にょるデ陀滋ィスの評価を行う.特性の比咬が容易に出来るょうに ...
Denshi Tsūshin Gakkai,
1983
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NHK 電子立国日本の自叙伝 - 第 4 巻 - 298 ページ
一ミクロンを正確に測るためには、計測器の能力は〇,一ミクロン二万分の一ミリ)フォトマスクを管理するには、一ミクロン二〇〇〇分の一ミリ)というレベルの長さを測る機械がをどうやって計測して管理するかということが重要視された。て、フォトマスクの管理が ...
現在は、電子部材・マスク事業、環境・水処理関連事業、不動産賃貸事業なども主な事業領域としています。□株式データ(2013年10月3 ... 今後の成長は、豪州などの輸出と、精密電子部品・フォトマスク事業などのビジネスにかかっていそうです。円安が大きな ...
LSIの作り方を設計から組み立て、検査まで、さらにはフォトマスクやウェーハの作り方まで含めて、工程順に易しく解説。半導体LSIに関しては多くの本が出版されています。しか ...
「半導体LSIのできるまで」編集委員会,
2004
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フォトをアートにする魔法: Photoshopマスク&コンポジット
照明、パース、視点、スケールに配慮した、コンポジット用の写真の撮影方法。フォトコンポジット制作に的を絞った、Photoshop機能解説。基本から応用まで、付属のレッスンファ ...
カトリンアイスマン, ショーンダガン, ジェームズポルト,
2013
包含词语«フォトマスク»的新条目
找出国内和国际出版社所讨论的内容，以及词语
フォトマスク在以下新条目的上下文中是如何使用的。
信越化が福井県にフォトマスクブランクスの新工場を建設
信越化学工業<4063>はこの日、フォトマスクブランクス事業の拡大を目指すため、新たに福井県越前市に工場を建設することを発表した。半導体 ... 同社では急拡大している最先端のフォトマスクブランクスの需要を取り込むべく、約７０億円を投じ新工場を建設。 «株探ニュース, 六月 15»
信越化学、半導体向け先端材料増産 70億円投じ福井に新工場
スマートフォン（スマホ）など高性能な情報技術（ＩＴ）機器に組み込む半導体向けに同社製品の引き合いが増えていることに対応。能力増強で収益拡大を狙う。 増産するのは「フォトマスクブランクス」と呼ぶ材料。四角に加工した合成石英の表面に金属を… «日本経済新聞, 六月 15»
オプトニクス精密、ナノレベルの開孔を持つ合金製フィルター開発−ＤＮＡ …
同フィルターの製造には、金属基板の上に感光性樹脂を塗り、フォトマスクを介してパターンを形成する露光と、電気鋳造を組み合わせた「フォトエレクトロフォーミング」技術を使用する。マイクロメートルレベルのフィルター製造には露光時に紫外線を用いるが、ナノ ... «日刊工業新聞, 五月 15»
凸版印刷、フォトマスクの上海工場で生産能力を3割増強
凸版印刷は、中国での半導体用フォトマスクの需要増に対応するため、中国・上海にあるToppan Photomasks Company Limited, Shanghai（TPCS）社の工場敷地内に新たに工場棟を建設し、生産能力を30％増強する。TPCS社は、凸版印刷の100％子会社 ... «日経テクノロジーオンライン, 四月 15»
兵庫県立大、ＥＵＶリソグラフィーのフォトマスク評価向け顕微鏡を開発
【神戸】兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィー（露光）のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開発した。従来の原子間力顕微鏡とは異なり、Ｘ線で非接触計測できる手法を ... «日刊工業新聞, 四月 15»
大日本印刷、ナノインプリント対応の半導体製造用テンプレートの量産 …
従来の半導体のフォトマスク製造で培った微細加工技術などを生かして量産体制を整えた。 大日印は０３年からナノインプリント用型の研究開発に着手し、１１年には型の製造装置を開発。量産化に向けて準備を進めてきた。 記事の続きや他の記事は電子版で ... «日刊工業新聞, 二月 15»
20nm対応ナノインプリント用テンプレートの年内量産を発表――大日本 …
複数のフォトマスクを使用して微細加工に対応している光リソグラフィ技術よりも低コストで微細プロセスの半導体を製造できる技術として注目を集めている。例えば、東芝とSKハイニックスの両社は、15nm以降のNAND型フラッシュメモリ製造にNILを導入する ... «EE Times Japan, 二月 15»
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 …
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射してシリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写することで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が ... «PC Watch, 二月 15»
ＰＡＲＡＭ、半導体製造向け光学鏡筒を開発−フォトマスク使わず微細加工
【立川】ＰＡＲＡＭ（パラム、東京都昭島市、安田洋社長、０４２・５１９・２５４１）は、半導体製造向けに永久磁石を使った電子ビーム描画装置用の光学鏡筒（コラム）を開発した。半導体ウエハーにパターン描画するのに必要なフォトマスクを使わずに微細加工できる。 «日刊工業新聞, 一月 15»
レーザーテック、14nm～7nm世代のマスクブランクス欠陥検査装置を発表
レーザーテックは4月10日、半導体フォトマスク用マスクブランクス欠陥検査装置「MAGICS」シリーズの新製品として、設計 ... これにより、Qzサブストレートだけでなく、最先端のMoSiバイナリマスクや位相シフトマスク各層の欠陥検出感度を向上させ、より高品質 ... «マイナビニュース, 四月 14»