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Tegesé saka "フォトレジスト" ing bausastra Basa Jepang

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PANGOCAP SAKA フォトレジスト ING BASA JEPANG

ふぉとれじすと
フォトレジスト
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APA TEGESÉ フォトレジスト ING BASA JEPANG?

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Photoresist

フォトレジスト

A photoresist yaiku komposisi sing digunakake ing fotolitografi sing ngganti sipat fisik kaya kelarutan kanthi cahya, sinar elektron utawa sing kaya. Awit wis ditrapake ing lumahing materi lan nglindhungi lumahing materi saka etching salajengipun lan proses liyane, diarani "nolak". Nanging, ing wektu saiki, sawijining materi sing fotosensitif lan bisa mbentuk lapisan gambar ing permukaan kanthi pola kanthi imagery / pembangunan disebut photoresist, lan ora kudu diwatesi kanggo nduweni fungsi perlindungan Ora. ... フォトレジストとは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。物質の表面に塗布され、後に続くエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 の名がある。しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ、必ずしも保護の働きがあるとは限らない。...

Definisi saka フォトレジスト ing bausastra Basa Jepang

Photoresist [photoresist] Nalika disinari karo cahya, sinar ultraviolet utawa kaya ing film sing tipis, mung bagian sing cocog diganti ing struktur, sawijining bahan sing nggawe dura tahan kimia lan gampang larut ing kimia. Digunakake kanggo manufaktur sirkuit IC, sirkuit LSI, kabel sing dicithak lan liya-liyane. フォトレジスト【photoresist】 薄膜にして光・紫外線などを照射すると、当たった部分だけが構造変化し、耐薬品性の硬膜をつくったり、薬品に溶けやすくなったりする材料。IC回路・LSI回路・プリント配線などの作製に用いられる。
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TEMBUNG BASA JEPANG KANG KALARAS PADHA KARO フォトレジスト


ジスト
zisuto
ストラテジスト
sutoratezisuto
ペキノロジスト
pekinorozisuto
メソジスト
mesozisuto

TEMBUNG BASA JEPANG KANG AWIT KAYA フォトレジスト

フォトセル
フォトダイオード
フォトダイオード‐アレイ
フォトトランジスター
フォトニック‐けっしょう
フォトニック‐バンド‐ギャップ
フォトニュートロン
フォトプレー
フォトポリマー
フォトマスク
フォトマル
フォトマルチプライヤー
フォトモンタージュ
フォトリソグラフィー
フォトリトグラフィー
フォトルミネセンス
フォトレジスター
フォトレタッチ‐ソフト
フォト
フォトン‐ファクトリー

TEMBUNG BASA JEPANG KANG WUSANANÉ KAYA フォトレジスト

あかちゃん‐ポスト
いりょう‐ツーリスト
うけいれ‐テスト
かいき‐テスト
かた‐キャスト
かんり‐ポスト
がくりょく‐テスト
きゃっかん‐テスト
ぎょうせい‐コスト
くうき‐ホイスト
けつごう‐テスト
けんしゅう‐テスト
こしょうしゃ‐リスト
しこく‐カルスト
しじょうか‐テスト
しほん‐コスト
しめい‐スト
しょうけん‐アナリスト
しょうにん‐テスト
しんにゅう‐テスト

Dasanama lan kosok bali saka フォトレジスト ing bausastra dasanama Basa Jepang

DASANAMA

Pertalan saka «フォトレジスト» menyang 25 basa

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PERTALAN SAKA フォトレジスト

Weruhi pertalan saka フォトレジスト menyang 25 basa nganggo Basa Jepang pamertal multi basa kita.
pertalan saka フォトレジスト saka Basa Jepang menyang basa liyané kang kasuguhaké ing perangan iki kajupuk saka pertalan statistik otomatis; ing ngendhi inti unit pertalan yaiku tembung «フォトレジスト» ing Basa Jepang.

Pamertal Basa Jepang - Basa Cina

光刻胶
1,325 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Spanyol

fotoprotector
570 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Inggris

Photoresist
510 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa India

photoresist
380 yuta pamicara
ar

Pamertal Basa Jepang - Basa Arab

مقاومة للضوء
280 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Rusia

фоторезиста
278 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Portugis

photoresist
270 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Bengali

Photoresist
260 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Prancis

photoresist
220 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Malaysia

photoresist
190 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Jerman

Photoresist-
180 yuta pamicara

Basa Jepang

フォトレジスト
130 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Korea

포토 레지스트
85 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Jawa

Photoresist
85 yuta pamicara
vi

Pamertal Basa Jepang - Basa Vietnam

cản quang
80 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Tamil

photoresist
75 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Marathi

Photoresist
75 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Turki

Foto dirençli
70 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Italia

photoresist
65 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Polandia

fotomaska
50 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Ukrania

фоторезиста
40 yuta pamicara

Pamertal Basa Jepang - Basa Romawi

fotorezist
30 yuta pamicara
el

Pamertal Basa Jepang - Basa Yunani

φωτοαντιστάτης
15 yuta pamicara
af

Pamertal Basa Jepang - Basa Afrikaans

Photoresist
14 yuta pamicara
sv

Pamertal Basa Jepang - Basa Swedia

fotoresist
10 yuta pamicara
no

Pamertal Basa Jepang - Basa Norwegia

fotoresist
5 yuta pamicara

Trèn migunakaké フォトレジスト

TRÈN

KEKAREPAN PANGGUNAN ARAN «フォトレジスト»

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Kart kang kapituduh ing dhuwur nuduhaké arang kerepé kagunané aran «フォトレジスト» ing negara kang béda-béda.

Tuladha kang kagunakaké ing sastra Basa Jepang, pethikan lan warta babaganフォトレジスト

TULADHA

BUKU BASA JEPANG KAKAIT KARO «フォトレジスト»

Temukaké kagunané saka フォトレジスト ing pilihan bibliografi iki. Buku kang kakait dening フォトレジスト lan pethikan cekak kang padha kanggo nyediyakaké panggunané ing sastra Basa Jepang.
1
あるある佐賀の底力 - 第 3 巻 - 20 ページ
アジア向けの供給拠点として佐賀,久保泉を選んだ 1 - 5 8 15 尺は、国内にある工場は、四日市工場が主力で、半導体フォトレジストでは、べルギ—、米国に工場をもっている。そして、シリコンアイランドと呼ばれる日本最大の半導体工場の集積地九州や成長 ...
押田努, 1999
2
フォトニック結晶 - 430 ページ
レーザホログラフィー厚い感光性フォトレジスト層の中に、典型的には UV 領域の同一波長で動作する少なくとも四つのレーザビームの干渉パターンを「凍結」することによって、周期的三次元構造を得ることができる(Campbel2000; Shoji2000 )。レジストの性質に ...
Jean-Michel Lourtioz, ‎Jean-Michel Gerard, ‎Henri Benisty, 2012
3
Sekiyu Gakkai shi - 第 16 巻 - 161 ページ
しかし,われわれはここに感光性樹脂(フォトレジスト)が大きな寄与をしていることを忘れてはならない。すなわち,集積回路ひ 0 の製作にあたつては,数#オーダーの微小電子回路を半導体上に形成させる操作を行なうが,この際に高い感度ならびに解像力を有する ...
Sekiyu Gakkai (Japan), 1973
4
図解入門業界研究最新化学業界の動向とカラクリがよーくわかる本:
フォトレジストは感護高分子*なので、合成ゴムや合日本の主な化縄宝=社成樹脂で培った高分子技術が活用できる展開でした。一九八八年には液晶表示材料の置や保護膜の販売を開始しています。その後、液晶表示関連材料としては、位相差拡大フィルム、 ...
田島慶三, 2011
5
これで半導体のすべてがわかる!: - 104 ページ
レジス卜マスクフオ卜レジストをマスキング材料として用いることから、こう呼ぶ。 ... この感光剤のことをレジスト(またはフォトレジスト)と呼びます。 ... 露光半導体の回路が描かれているフォトマスクを介して、半導体パターンをゥエー八に転写して焼き付けます。
西久保靖彦, 2007
6
図解入門業界研究最新半導体業界の動向とカラクリがよーくわかる本:
このフォトリソグラフィは、さらに細かい工程に分けられており、「感およびレジス卜や塗付」「露光」「現像」「ェッチング」「レジス卜除去」の手順で作業が行われます「感光剤およびレジスト塗付」では、感光性を持つ樹脂をウェハの表面に塗布し、写真のフィルムに ...
センスアンドフォース, 2010
7
図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み: リソグラフィ技術の核心に迫る
以前はフォトレジスト(Ph。t。 reSist)と呼んでいました。これは光リソグラフィで解像するという意味から、光を表す ph 。 t 。という言葉を前に付けたものと思われます。レジストは粘弾性のある液体であり、平面であるウェーハに塗布した後にベーキングで溶媒を ...
佐藤淳一, 2011

BABAGAN WARTA KANG NGLEBOKAKÉ ARAN «フォトレジスト»

Weruhi yèn pawarta nasional lan internasional wis ngomongaké lan kepriyé aran フォトレジスト digunakaké ing babagan warta iki.
1
東応化が急騰、半導体フォトレジスト成長性評価で上値追い加速
半導体フォトレジストのトップメーカーで、北米やアジア地域での需要を取り込んでいる。16年3月期は営業利益段階で前期比横ばいの133億円を見込むが市場では保守的との見方が強い。国内準大手証券では「同社の半導体レジスト製品群の成長性を評価 ... «株探ニュース, Okt 15»
2
富山県立大、リソグラフィプロセス向け植物由来の水溶性レジスト材料を …
【富山】富山県立大学工学部機械システム工学科の竹井敏准教授、花畑誠客員教授は、基板上にフォトレジストのパターンを形成するリソグラフィプロセス向けに、植物由来の水溶性高分子材料を開発した。波長が365ナノメートルと比較的低エネルギーの光でも ... «日刊工業新聞, Okt 15»
3
JSR、17年からEUVフォトレジストを量産開始−7nm以降の半導体に照準
JSRは次世代の半導体製造用化学品、極紫外線(EUV)リソグラフィ用フォトレジストの商業生産を2017年に始める。「7ナノメートル」世代が対象で、19年には「5ナノメートル」向けに新規機構のレジストの量産を目指す。実用化が難しいとされてきたEUVだが、 ... «日刊工業新聞, Okt 15»
4
富士フイルム、半導体向け高純度溶剤大手の米ウルトラピュア …
富士フイルムは1日、年内をめどに半導体向けの高純度溶剤を手がける米ウルトラピュアソリューションズ(UPS、カリフォルニア州)を買収すると発表した。フォトレジストの生産やシリコンウエハーの洗浄などに使われるもので、UPSは米大手。富士フイルム ... «日刊工業新聞, Okt 15»
5
信越化7年ぶり増配、16年3月期9%増益 半導体ウエハー好調
円安で半導体向けフォトレジスト(感光性樹脂)などの輸出採算が改善する。工場の生産性を一段と高めることで固定費を抑え、経常利益は6%増の2100億円になる見込みだ。 同日発表した15年4~6月期決算は、売上高が前年同期比7%増の3140億円、純 ... «日本経済新聞, Jul 15»
6
【特別インタビュー】未来学者・川口盛之助氏に聞く(5)ブランディング
電気関連で一番高いフォトレジストと同じコストパフォーマンスのところに、高級ワインの『ロマネコンティ』がある。銀座で飲むと一本100万円くらいする。ワインは感性の世界で、世界一高いものになるとキロ1300万円まである。その辺りはほとんど飲むつもりがない ... «ニュースイッチ Newswitch, Jul 15»
7
帝人 高機能微多孔膜 新事業展開本格化
フレキシブルで高精度に孔径や膜厚を制御する技術を保有し、業界最小となる2ナノメートルまでの異物を除去できる平膜タイプのメンブレンを供給できる点が評価され、高機能メンブレン「ミライム」として半導体用フォトレジスト向けに採用が始まっている。今後は ... «ヘッドライン ニュース, Jul 15»
8
信越化学 フォトマスクブランクス工場を越前市に新設へ
信越化学工業は6月18日、フォトマスクブランクス事業の拡大を目指し、新たに福井県越前市に工場を建設すると発表した。 工場用地は取得して ... その代表例が感光性の樹脂であるフォトレジストで、集積回路をウエハーに焼き付ける露光工程で使われている。 «ゴムタイムスWEB, Jun 15»
9
富士フイルムとベルギー・IMEC、フォトレジスト技術でフルカラーの …
富士フイルムとベルギーの半導体研究機関IMECは2日、サブミクロン(1万分の1ミリメートル)サイズのパターン形成ができる有機半導体用のフォトレジスト技術を使い、フルカラーの有機発光ダイオード(OLED)を作成して正常に動作することを実証したと発表 ... «日刊工業新聞, Jun 15»
10
「化学・繊維」の設備投資から見えてきた世界をリードする戦略。今年度は …
設備投資の多くを、フォトレジストや封止材など半導体関連材料の増産に充てる。日立化成は生産拠点の合理化や検査・梱包工程の自動化も進める。 ここ数年、電子材料の需要は減少するとの見方が多かった。スマートフォンは、パソコンや大型テレビに比べる ... «ニュースイッチ Newswitch, Mei 15»

KAITAN
« EDUCALINGO. フォトレジスト [online]. Kasedya <https://educalingo.com/jv/dic-ja/futoreshisuto>. Mei 2024 ».
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