BUKU BASA JEPANG KAKAIT KARO «かがくぞうふく‐レジスト»
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かがくぞうふく‐レジスト ing pilihan bibliografi iki. Buku kang kakait dening
かがくぞうふく‐レジスト lan pethikan cekak kang padha kanggo nyediyakaké panggunané ing sastra Basa Jepang.
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図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み: リソグラフィ技術の核心に迫る
化学増幅型レジスト( CAR )ここではェキシマレ~ザを用いた露光技術から主流になった化学増幅レジスト(ChemiCa=y-AmpHfied ReSiSt 、略して CAR ともいいます)にっいて説明しておきます。これも微細化を推進した大きな力になりました。極何ゅぇ化学増幅 ...
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早わかりQ&Aクリーンルームの設計・施工マニュアル: - 114 ページ
1 ~ 9 加 3 ― (アンモニ—ア除去)化学増幅レジストな/ , ' , ,ノ严光 I I I ! I ! I ! I ; I ホトマスク函 + 睡, " ^画一塗布露光:れ「工キシマレーザ(波長りぷ^ ! ! ! )化学増幅レジスト解像性能のアンモニア濃度依存性 2 日後 6 日後 9 日後暴りの発生状況とアンモニア濃度の ...
「早わかりQ&Aクリーンルームの設計・施工マニュアル」編集委員会, 2008
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よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み: プロセスの全体を俯瞰する : あなたの知らない半導体の秘密がわかる
印画紙に相当する感光'性レジスト~マスクのパターンをウェーノ廿二転写するにはウェーノ丶上に形成した感光性レジストに露光により転写します。感光性 ... 触れておきます。図表 5 - 5 - 3 に示すように化学刃セロ戦ィり寸ー効く洞 増幅型レジストの場合は酸発生剤.
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図解入門よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み: 製造装置の全体を俯瞰する
また、化学増幅レジス卜#が使用されますので、そのため、ケミカル汚染には注意が必要です。ゥェ一八ステージは防 ... 氺化学増幅レジスト露光の際に酸発生剤を用い、それが触媒となって、レジスト中の化学反応を進め、感度を向上させる。 5 - 2 リソグラフィ一 ...
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図解入門よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み: - 96 ページ
レジストの種類(図表 5 - 5 - 1 )マスク(着色部が遮光領域)レジス卜攀" 571 ^ ^ 08 ^ !顯鲁 0 30201=1 30201=1 3020^1 ^ 1101066 门 6 「 310 「の略。 9^3 ?05\ 5X1305 リ「 6 83 に 6 の略。露光後にベ一キングしてレジスト形状を改善する。 化学増幅型 ...
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科学技術の最前線: 「日本の頭脳」 を現場に追う - 第 13 巻 - 138 ページ
いまの一六メガビットでも工学像の劣化をレジストがカバ—していますが、山岡レジスト自体はいいのですが、回路パタ—ンを焼きっ ... で話題になっていますが、増幅プロセスを入れてレジストを高感尾崎最近話題の化学増幅型感光性髙分子というのは何ですか。
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日米の技術競争力: 徹底検証 - 89 ページ
これは光に対する感度が抜群に高い構造のレジスト材料で、従来のレジスト材料が一 0 個の光粒子のうち三個程度にしか反応しなかったのに対して、化学増幅型レジストは触媒作用を起こす構造であるために、一つの光粒子が一〇 0 以上の連鎖反応を誘発 ...
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図解入門よくわかる最新半導体の基本と仕組み: 半導体/LSIテクノロジー入門
そこで化学増幅型レジス卜^を用いるなど、リソグラフイ全般にわたっていろいろな工夫が必要になります。ステッバ- (縮'』、投影型露^ 8 羅)の例縮小投影型! !光装置「~ 5 ド写真提供:株式会社ニコン化学增幅型レジスト光度不足分を加熱によって補うもの。
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用例でわかるカタカナ新語辞典 - 551 ページ
著しい経済発展を遂げたニーズ( z1 耳 5 )の幹国釵台滞香港:シンガ、ポールをいう:フオートラン廊○良丁民人 z ]科学技術向けの高水準プログラム言語の 1 つ.鷹 0 て...リ 18 士亡 2 ロ 512 セ五○口の路透フォトレジスト江園垣 0 亡○て 65 五 5 亡] (電)光が当たると耐薬品性の膜をつくる物質で奪フ。リント墓板の作成 ... 旧式で増幅などしないもの.
